分子层沉积（Molecular Layer Deposition，MLD）是一种有机聚合物与有机/无机杂化的纳米薄膜制备技术。通过将两种以上的反应前驱体以气体脉冲的形式交替地引入反应器，与基底表面的基团如羟基或氨基进行化学吸附和反应来进行薄膜生长。它的自限性决定了每个循环沉积一个分子层，厚度精确可控。可用于制备均匀性、阶梯覆盖率极高的三维保形性化学计量纳米薄膜。MLD通常可沉积的有机聚合物膜和有机/无机杂化膜有：PEG聚乙二醇，聚酰亚胺-酰胺Polyimide–amide，聚酯Polyester，聚氨酯Polyurethane，聚酰胺Polyamide，聚脲Polyurea，聚酰亚胺Polyimide，聚硫脲Polythiourea；及Al、Ti、Zn、Fe 的有机/无机杂化膜，如：聚（铝乙二醇）等等。

基片尺寸：4 -12 英寸可选，特殊尺寸可定制

样品高度：6 mm，可选配更高样品选件

基片温度：RT-400℃，控制精度±1℃，可选配更高温度选件

前驱体输运系统：标准2路前驱体管路，可以选配到6路以上

载气系统：N₂或者Ar

沉积模式：连续模式^TM（Flow^TM）、停流模式^TM（StopFlow^TM）、压力调谐模式^TM（PreTune^TM）

可选件：手套箱连接，大尺寸/多片样品夹具，等离子体辅助，尾气处理系统，等等

沉积均匀性：聚（铝乙二醇），均匀性< ±1%

电源：50-60 Hz  220V /15A交流电源，标准金属机柜，易拆卸柜板，可调节支脚

仪器尺寸：1100 X 600 X 1200 mm

详细信息请联系我们