压力调谐模式^TM（PreTune^TM）是我公司所开发的独有专利技术，可对超宽深比的微纳米结构实现完美的超精细沉积。随着人们对介孔材料及微通道材料不断深入的研究，迫切需要一种新型的原子层沉积模式，以消除在传统模式过程中由于前驱体停留时间过长所导致的CVD效应，影响膜层的均匀性和一致性。该技术自推出以来持续获得用户的好评。我公司今年以来已完成多项不同领域的服务。

       示例一：氧化钆（Gd₂O₃）在高宽深比结构的MCP内壁的沉积，厚度均一为21nm

       示例二：氧化钛（TiO₂）在SBA-15介孔分子筛孔道中的沉积精确可控

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