原子层沉积由于其自身的自限制性、三维保型性、高台阶覆盖性的技术特点，可实现高致密的一致稳定的化学计量薄膜的批量制备。同时还可以借助其他辅助方法，如等离子体等，实现低至室温的低温沉积，将是光学镀膜领域除传统技术外的一重要的补充。

       我公司已开展原子层沉积在光学镀膜领域的服务与代工，包括膜系材料的设计与工艺开发等技术服务，基于我们十多年的技术积累，为用户解决技术难题和行业痛点，提供技术方案、设备与代工服务。我们可提供的技术包括但不限于以下方面：

1. 低温沉积。更适用于以COC、COP、PMMA、PC、PEI材质为代表的光学模组和其他光学树脂材料

2. 表面硬度的提升、抗磨损、抗氧化、抗腐蚀、水氧隔绝、防霉抗菌

3. 表面改性、亲疏水、亲疏油

4. 紫外线隔绝，抗紫外线导致的老化

5. 功能性膜层、导电、绝缘High-K、钝化层

6. 压印光波导/光栅的如二氧化钛等材料的低温沉积

7. 实现以上功能的无机/有机柔性膜层

8. 实现以上功能的单一材质（非复合膜）的技术工艺

9. 增透、减反

       我公司在原子层沉积、纳米薄膜制备、微纳米粉体制备与包覆、富勒烯（C₆₀）制备等领域的持续技术创新，会更好地服务于广大用户。 

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