我公司一种原子层沉积方法的专利（专利号：202211195472.8）于2025年8月18日获得国家知识产权局的授权，其涉及一种单次循环单面原子层沉积的方法，以解决相关应用的痛点，满足特定工艺过程中的特殊要求。

       我公司在原子层沉积、纳米薄膜制备、微纳米粉体制备与包覆、富勒烯（C₆₀）制备等领域的持续技术创新，会更好地服务于广大用户。 

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